Nano-instrumentatie voor ultrazuivere lithografie

Thema:
Digitale innovatie

Fabricage van halfgeleidercircuits ('Integrated Circuits', IC’s), vraagt om ultraschone en veeleisende processen. Ultraschone apparatuur met hoge eisen aan stromings- en temperatuurcondities spelen een belangrijke rol in het bereiken van een hoog rendement van de productie. Wij helpen bij het ontwikkelen en verbeteren van fabricage-apparatuur, zodat die nog langer meegaan en nog beter presteren.

Wanneer vooraanstaande technologiebedrijven als ASML en Carl Zeiss problemen hebben met kritische verontreiniging komen ze naar ons voor ondersteuning. We hebben een team van 50 gekwalificeerde nano-instrumentatietechnologen en -wetenschappers. Zij ontwikkelen en assembleren experimentele opstellingen en voeren hier experimentele testprogramma’s op uit. We ontwikkelen deze opstellingen en houden ze in eigendom, ontwikkelen ze samen met onze klanten of we dragen het eigenaarschap volledig aan hen over.

Ons doel is om kritische problemen te voorkomen, diagnosticeren en verhelpen. We hanteren de principes voor vervuilingsbeheersing bij het ontwikkelen, bouwen en valideren van ultraschone apparatuur voor lithografie. We blijven onze uitgebreide kennis over moleculaire contaminatie en deeltjescontaminatie, vacuüm-, flowtechnologie en hoogenergetische straling uitbreiden en voor onze klanten inzetten.

Diepgaande kennis van Extreem Ultraviolet licht (EUV)

Bij TNO zetten we onze kennis over moleculaire en deeltjescontaminatie in bij onderzoek naar processen en ontwikkeling van systemen voor de EUV-lithografie-industrie. We adviseren ook toeleveranciers van de EUV-lithografie-industrie over schoon produceren en hoe dit te bereiken.
We passen onze expertise in oppervlaktefysica en fysische chemie in al onze activiteiten toe. En dat stelt ons in staat ontwikkelingen op alle terreinen van EUV te versnellen. Enkele voorbeelden van onze mogelijkheden:

  • sensoren voor het meten van moleculaire contaminatie (MFIG)
  • diverse experimentele opstellingen, waaronder vacuüm opstellingen
  • Waterstofradicalensensor gebaseerd op een bij TNO ontwikkelde warmtefluxsensor
  • RapidNano (RN3) voor snelle inspectie op blanco EUV-maskers. Deze is in staat om een enkel deeltje van enkele tientallen nanometers op een oppervlakte van 142 x 142 mm te detecteren.
  • apparatuur om moleculaire, chemische uitgassing te meten en ook de weerstand tegen waterstofradicalen en plasma te meten
  • plasma-meetapparatuur (RFEA, Langmuir probe)
  • schoonmaaktechnologie (natte schoonmaaktechnieken en droge schoonmaaktechnieken, met en zonder plasma)
  • deeltjesmeettechnologie (Fast Micro, PMC kaart, Part sense)
  • EUV beam lines (EBL1 en EBL2) voor onderzoek naar de levensduur van optieken en onderzoek naar de interactie van EUV-straling op materialen
  • analysesystemen als Optische Microscoop (OM), Scannende Elektronen Microscoop (SEM) plus materiaalanalyse met energie opgeloste X-ray spectroscopie (SEM-EDX), X-ray foto-elektron spectroscopie (XPS), Ellipsometrie en Atomic Force Microscopy (AFM)

Veeleisende stroming en thermische vraagstukken

In de halfgeleidermarkt maar ook in veel andere markten is er vraag naar technische hoogstandjes in complex stromingsgedrag en thermische huishouding. Een complex stromingsprobleem is bijvoorbeeld het uit elkaar houden van gassen en/of vloeistoffen. Zelfs als oppervlakken, waarbinnen het gas/de vloeistof zich bevindt, met een hoge snelheid relatief ten opzichte van elkaar bewegen.

Voorbeelden van applicaties waar bovenstaande complexe stromingsproblemen aan de orde zijn:

  • immersielithografie-ontwikkeling
  • ontwikkeling van een spatieel Atoom Lagen Depositie systeem
  • thermische test en druktest op substraten voor het ultraprecies meten (<±1 mW) van de warmtebelasting van een substraat en ook het meten van de drukverdeling (±1 Pa)
  • het verhitten of afkoelen van halfgeleidersubstraten binnen een specifieke tijd en met een specifieke homogeniteit
  • microfluïdische koeling van automobielelektronica zoals batterijpakketten of 5G-telecomdriverchips
  • stroming en temperatuuraccommodatie-eigenschappen van materialen bij lage drukken

We hebben de domeinexpertise gecombineerd met de thermische en stromingsexpertise om de bovengenoemde veeleisende systemen te ontwikkelen en valideren. Hierbij gebruiken we simulatie (CFD, FEM) en testen. We hebben een unieke exclusieve IP-positie in microfluïdisch koelen of verdampen.