Nano-instrumentatie voor ultrazuivere lithografie

Expertise op gebied van ultrazuivere lithografie

Wanneer vooraanstaande techbedrijven zoals ASML en Carl Zeiss problemen ondervinden met kritische verontreiniging wenden ze zich tot TNO voor ondersteuning. Ons team van 40 gekwalificeerde nano-instrumentatietechnici ontwikkelen en assembleren experimentele opstellingen om uitdagingen het hoofd te bieden. TNO ontwikkelt deze opstellingen en houdt ze in eigendom, ontwikkelt ze samen met onze klanten of draagt het eigenaarschap volledig aan hen over.

TNO stelt zich tot doel kritische problemen te voorkomen, diagnosticeren en verhelpen: van probleemanalyse tot oplossing hanteren we de principes voor contaminatiebeheersing bij het ontwikkelen, bouwen en valideren van ultrazuivere apparatuur voor lithografie. We blijven onze uitgebreide kennis op het gebied van moleculaire contaminatie en deeltjescontaminatie, vacuümtechnologie en hoogenergetische straling uitbreiden en voor onze klanten beheren.

Diepgaande kennis van extreem ultraviolet licht (EUV)

Bij TNO zetten we onze kennis van deeltjesgeneratie en besmettingsdynamiek in bij onderzoek naar processen en omstandigheden gerelateerd aan EUV-lithografie. Onze expertise op het gebied van oppervlaktefysica en fysische chemie wordt op al onze activiteiten toegepast en dat stelt ons in staat ontwikkelingen op alle terreinen van EUV te versnellen. Enkele voorbeelden van onze mogelijkheden:

  • helium-ionen meettechniek voor weerstandskarakterisering
  • sensoren voor het meten van moleculaire contaminatie
  • een niet contaminatie gebonden EUV voedingssensor
  • diverse vacuümvaten en opstellingen
  • Insync hulpmiddel voor het laden en ontladen van EUV systeemrasters in de MaskTrack Pro maskerreiniger
  • RapidNano (RN3 en RN4) voor snelle inspectie op blanco EUV-maskers, in staat om een enkel deeltje van enkele tientallen nanometers op een oppervlakte van 142 x 142 mm te detecteren
  • EUV bundellijnen (EBL1 en EBL2) voor onderzoek naar de levensduur van optieken, wat onderzoek naar de gevolgen van EUV-straling mogelijk maakt

Het team dat een antwoord heeft op uw uitdagingen

Van verlenging van de levensduur van optieken en collectoren tot het oplossen van problemen op gebied van contaminatie - TNO heeft de deskundigheid in huis die u nodig heeft voor uw productontwikkeling en het verlengen van de levensduur van uw apparatuur. Daarom roepen marktleiders zoals ASML en Carl Zeiss de hulp van TNO in wanneer zich technische uitdagingen voordoen.

Wilt u weten hoe TNO uw ambities op gebied van lithografie kan ondersteunen? Wilt u uw EUV-activiteiten tot een succes maken? Als u vandaag contact met ons opneemt, gaan we met onze expertise voor u aan de slag.

Wilt u weten hoe TNO uw ambities op gebied van lithografie kan ondersteunen? Wilt u uw EUV-activiteiten tot een succes maken?

Als u vandaag contact met ons opneemt, gaan we met onze expertise voor u aan de slag.

Contact

Expertisegroepen
Contact

Ir. Adri Krabbendam

E-mail

VOLG TNO OP SOCIAL MEDIA

blijf op de hoogte van ons laatste nieuws, vacatures en activiteiten

Op TNO.nl maken we gebruik van cookies. De daarin opgeslagen informatie kan bij een volgend bezoek weer naar onze servers teruggestuurd  worden.