Ons werk

Uitlijnsensor voor wafersteppers

Een IC bestaat uit op elkaar gestapelde lagen van verschillend materiaal met daarin een patroon. De verschillende soorten processen vinden plaats in verschillende machines. De uitdaging is om het nieuwe patroon dat in een waferstepper op de vorige laag geprojecteerd wordt, precies op de juiste plek te krijgen om bijvoorbeeld elektronische verbindingen goed te krijgen.

Daarvoor is de zogenoemde uitlijnsensor verantwoordelijk. TNO heeft hiervoor een oplossing bedacht die berust op technieken uit de elektronenmicroscopie. De uitlijnsensor heeft markeringen op de chip nodig. Die markeringen kunnen door bepaalde processtappen aangetast worden en dan kan de sensor zijn werk niet meer goed doen. Ten minste als de normale op zichtbaar licht gebaseerde optische methoden gebruikt worden. Wij gingen in plaats daarvan uit van een sensor die werkt als een miniatuur elektronenmicroscoop voor toepassing in een waferstepper. Door de vorm van de markering anders te kiezen en beeldanalyse toe te passen, blijven de markeringen goed detecteerbaar. Ook als er al lagen over de markering heen liggen.

Minder fouten

De sensor is gevoelig voor de hele markering en niet alleen voor het - zichtbare - oppervlak ervan. Beschadigingen van de toplaag van de markering hebben zo geen invloed op de uitlijning. Het aantal uitlijnfouten neemt drastisch af. Het door ons toegepaste principe kan ook van nut zijn in andere systemen die in hoogvacuüm met nanometerprecisie moeten werken.

Contact

Dr. ir. Diederik Maas

  • Helium ionenmicroscopie
  • HIM
  • metrologie
  • SEM
  • deeltjes optica
E-mail

Wij gebruiken anonieme cookies om het gebruik van onze site te verbeteren.