TNO International Centre for Contamination Control (ICCC)

Volgens de Wet van Moore verdubbelt het aantal transistors op het oppervlak van chips bijna elk jaar. De behoefte aan de bewerking van kleinere oppervlakken neemt toe. Bij deze ontwikkelingen is de vervuilingsbeheersing van cruciaal belang. TNO wil de introductie van nieuwe technologieën voor elektronicaproductie versnellen en ontwikkelt oplossingen voor vervuilingsbeheersing binnen alle segmenten van de branche.

Het TNO International Centre for Contamination Control (ICCC) ontwikkelt de beste standaarden en methoden op het gebied van vervuilingsbeheersing, ten behoeve van het voorkomen en elimineren van zowel vervuiling door deeltjes als moleculaire vervuiling. Het centrum is uitgerust met de meest geavanceerde facilteiten, inclusief apparatuur voor het werken met EUV maskers, apparatuur voor de detectie en het analyseren van vervuiling, en reinigingsapparatuur. Op basis van 15 jaar praktijkervaring en opgedane kennis ontwikkelen we innovatieve en betrouwbare nieuwe oplossingen. Zowel in de hedendaagse immersietechniek als in EUV-lithografie is TNO toonaangevend wat betreft vervuilingsbeheersing. Nu er steeds kleinere producten worden geproduceerd en er wafers van grotere substraten worden gebruikt, werkt TNO aan oplossingen voor de uitdagingen op het gebied van vervuilingsbeheersing waarmee zowel OEM's (leveranciers van apparatuur) als IDM's (fabrikanten van chips) te maken krijgen.

Onze Aanpak

TNO richt zich op strikte vervuilingsbeheersing op drie niveaus:

  • Preventie: Strikte vervuilingsbeheersing begint met preventie. Door technologie te ontwikkelen die de kans op vervuiling vooraf al uitsluit, maken we veilige, betrouwbare productie van de hoogste kwaliteit mogelijk.
  • Diagnostiek: Effectieve detectie en analyse van vervuilingen is ook essentieel. Met onze diagnostische technieken en strategieën kunnen bedrijven deeltjes tot 20 nanometer detecteren. Daarnaast doen we onderzoek naar de detectie van nog kleinere deeltjes.
  • Reductie: Zorgvuldige, complete plannen voor de vermindering en verwijdering van vervuilende deeltjes vormen een essentieel onderdeel van onze activiteiten.

Leiders in de industrie

TNO werkt samen met de leiders binnen de industrie, zoals ASML en Carl Zeiss SMT. Bij deze samenwerkingen richten we ons op de specifieke uitdagingen waarvoor een bedrijf staat, door zowel dringende problemen op te lossen, als nieuwe strategieën te ontwikkelen. Ook maken we deel uit van het Europese initiatief ENIAC, dat is bedoeld om publiek-private samenwerking op het gebied van technologische ontwikkeling te stimuleren. De door ons ontwikkelde experimenten en strategieën zijn maatgevend voor de gehele EU en vormen de basis voor de protocollen die tijdens elke fase van chipproductie worden gehanteerd. Ons aanbod:

  • Ontwikkeling van ultra-schone systemen en modules
  • Onafhankelijke kwalificatie van systemen en modules
  • Levensduuronderzoek van optische componenten, maskers en coatings
  • Beoordelings en verbeteringprogramma's voor de toeleverketen
  • Haalbaarheidsstudies voor nieuwe technologieen
  • Training en consultancy

Nieuws

Partnerschap tussen TNO en USHIO voor ontwikkeling van de nieuwste generatie lithografische componenten

15 februari 2016
TNO en de Japanse lichtbronspecialist USHIO gaan een strategisch partnerschap aan dat is gericht op de ontwikkeling van extreem ultraviolet (EUV)-lithografie voor de productie van de volgende generatie... Lees verder

Downloads
Semiconductor Equipment

Wij gebruiken anonieme cookies om het gebruik van onze site te verbeteren.