Ons werk

Snelle detectie van de allerkleinste deeltjes

Bij de fabricage van chips leidt het kleinste deeltje al tot een onbruikbaar product. Om dat te kunnen beheersen, is het nodig om deeltjes met een omvang van 50 nanometer te detecteren. TNO ontwikkelde een speciale scanner, de Rapid Nano. Daarmee kan TNO vaststellen welke schone werkmethoden toepasbaar zijn, hoe goed ze werken en op welke manier ze kunnen worden verbeterd. Zodat geen verontreiniging nog aan de aandacht ontsnapt.

Met behulp van nanotechnologie worden chips met steeds kleinere structuren gemaakt. State-of-the-art zijn de fijnste structuren slechts 22 nanometer, en volgens de wet van Moore blijft die omvang elk jaar verder dalen. De geringste verontreiniging is tijdens de fabricage van chips al desastreus. Volgens de modernste normen mag halfgeleiderapparatuur tijdens het productieproces niet meer dan één deeltje van 50 nanometer per tien cycles toevoegen aan een masker van 15 x 15 centimeter. Bovendien wil je dat binnen een paar uur weten. Vergelijk dat met het zoeken naar een tennisbal op een oppervlak ter grootte van Nederland, terwijl je daar met een straaljager op volle snelheid overheen raast. De vraag is of er vandaag een tennisbal meer ligt dan gisteren, en zo ja: waar dan. Geen object mag worden gemist.

Betaalbaar

TNO ontwikkelde een speciale scanner, de Rapid Nano. Dat is een – relatief – betaalbaar instrument dat het reflectieve oppervlak (bijvoorbeeld EUV-maskers) volledig scant in een afgeschermde schone box. Het inspectiesysteem maakt gebruik van een dubbel darkfield-concept, waarbij informatie wordt opgenomen door een camera. De gegevens worden opgeslagen voor offline dataverwerking en evaluatie: tracking en tracing. De oplossing biedt bijzondere voordelen. In de gepatenteerde schone box worden nanometerdeeltjes gescand met een snelheid van 100 cm2 per uur. Bovendien kan de oplossing specifiek worden geïntegreerd met het proces van de klant. De scanner werd met succes toegepast tijdens de ontwikkeling van de robot die de EUV-maskers transporteerde in de eerste EUV-wafersteppers van ASML, en bij fabricage van beeldsensoren.

Betrouwbaar

Op het gebied van de detectie van deeltjes in het EUV-domein bezet TNO al tien jaar een toonaangevende positie. Met haar kennis van optica, signaalverwerking, vacuümtechnologie en ultraschoon werken, blijft TNO methoden bedenken om defecten betrouwbaar te detecteren en lokaliseren. Voorkomen is beter dan genezen. Door instrumenten als de Rapid Nano al tijdens de ontwikkeling van apparatuur in te zetten, komen knelpunten in een vroeg stadium aan het licht. Op die manier helpen we bedrijven om state-of-the-art te produceren tegen aantrekkelijke prijzen.

Downloads

Dr. Jacques van der Donck

Contact

Dr. Jacques van der Donck

  • contamination control
  • particles
  • prevention
  • measuring
  • cleaning
E-mail

Wij gebruiken anonieme cookies om het gebruik van onze site te verbeteren.