Ons werk

Front-end materiaalbeheersing

Bij de fabricage van halfgeleiders vallen de verschillende front-end processtappen uiteen in vier algemene categorieën: depositie, verwijdering, modificatie van elektrische eigenschappen, en patroon aanbrengen. De eerste drie worden aangeduid als front-end materiaalbeheersingstechnieken.

Depositie is elk proces waarbij materiaal wordt aangebracht op de wafer door middel van opdampen, coaten of anderszins. Beschikbare technologieën zijn de fysische dampdeposite (PVD), chemische dampdepositie (CVD), electrochemische depositie (ECD), moleculaire bundelepitaxie (MBE) en, meer recent, atomaire laagdepostie (ALD). Verwijderingsprocessen zijn processen waarbij materiaal van de wafer wordt verwijderd, ofwel algemeen of selectief. Het gaat hierbij voornamelijk om etsen, zowel nat etsen als droog etsen, bijvoorbeeld reactief ionetsen (RIE). Chemisch-mechanische planarisatie (CMP) is ook een verwijderingsproces dat wordt toegepast tussen niveaus.

De modificatie van elektrische eigenschappen bestond vroeger uit het doteren van transistorbronnen en -afvoeren, eerst in diffusieovens en later door ion-implantatie. Deze doteringsprocessen worden opgevolgd door gloeien in een oven of, bij geavanceerde apparaten, snel thermisch gloeien (RTA) waardoor de geïmplanteerde doteringsmiddelen worden geactiveerd. De modificatie van elektrische eigenschappen omvat nu ook modificatie van de diëlektrische constante in isolatiematerialen met lage k-waarde door blootstelling aan ultraviolet licht in het UV-proces (UVP).

TNO is een ontwikkelingspartner voor fabrikanten van apparaten, apparatuurbouwers en materiaalleveranciers met diensten op het gebied van:

  • onderzoek en ontwikkeling
  • systeemontwikkeling en techniek
  • prototypes bouwen
  • modellering

 

TNO biedt multidisciplinaire deskundigheid (zoals materiaaltechnologie, modelleren van gasstromen, systeemontwikkeling, bewakings- en regelsysteem, optische systemen).

Ing. Harm van Leeuwen

Contact
E-mail

Wij gebruiken anonieme cookies om het gebruik van onze site te verbeteren.