nieuws

Nieuwe Extreem UV licht faciliteit EBL-2 van TNO ziet 'first light'

In de race naar steeds kleinere en zuinigere chips • 08 dec 2016

TNO kondigt vandaag het zogenoemde “first light” aan van de speciaal ontwikkelde en in de wereld unieke Extreem Ultra Violet (EUV) belichtings-  en analysefaciliteit EBL-2. Met “first light” schijnt het eerste keer licht uit de EUV-bron op een testmonster in de belichtingskamer. Dit is een belangrijke functionele test dat het concept werkt. Daarmee ligt het project op schema.

Klaar voor gebruik vanaf april

Nu start de laatste fase van het bouwproject om de integratie af te ronden en het systeem te testen en te kwalificeren. Klanten over de hele wereld kunnen vanaf april 2017 gebruik maken van dit systeem. EBL-2 is mede tot stand gekomen door een bijdrage uit het Toekomstfonds en van het NanoLabNL.

Race naar steeds kleinere en zuinigere chips

In de race om chips steeds kleiner, sneller en zuiniger te maken schakelt de chipindustrie over naar het gebruik van EUV-licht in lithografiesystemen. Hierdoor is het noodzakelijk om de natuurkundige en de scheikundige aspecten van de interactie tussen materialen en EUV-licht te begrijpen. TNO heeft hiervoor met een aantal partners als USHIO en ASYS de wereldwijd unieke onderzoeksfaciliteit EBL-2 ontworpen en gebouwd.

“Met deze onderzoeksfaciliteit kunnen we het vervuilingsgedrag en de duurzaamheid van materialen en componenten die belicht worden door EUV analyseren en karakteriseren” zegt dr. Rogier Verberk (Directeur Semiconductor Equipment van TNO). Deze kennis zal bijdragen aan de ontwikkeling van nieuwe materialen en componenten die nodig zijn voor de meest geavanceerde EUV-lithografie systemen. Dit apparaat is door TNO in eigen beheer ontwikkeld zodat alle bedrijven in de EUV-industrie er gebruik van kunnen maken.

Product van samenwerking, beschikbaar voor iedereen

Het systeem is mede tot stand gekomen door een lening uit het toekomstfonds van Economische Zaken en bestaat uit een EUV-belichtingstak en een XPS-analysetak. De EUV belichtingstak bestaat uit de lichtbron van USHIO een lichtbundelingsunit, en de belichtingskamer.
Het Sample-laadsysteem van ASYS, bevat een atmosferische en een vacuüm-robot, en een plasmareinigingskamer. Het XPS-systeem, dat gefinancierd is vanuit NanoLabNL, dient voor chemische analyse van het oppervlakte van het sample. Het geheel opereert in ultra schoon vacuüm.

Roadmap

Semiconductor Equipment: innovaties voor machines voor halfgeleiders

De moderne wereld is zonder elektronica, internet, elektronisch bankieren, etc. bijna niet meer voor te stellen. Deze toepassingen kunnen niet functioneren zonder geavanceerde elektronische circuits, met... Lees verder
Nieuws

Drie TNO-aanvragen Toekomstfonds gehonoreerd

09 juni 2016
Vandaag heeft het ministerie van Economische Zaken de toekenningen voor faciliteiten vanuit het Toekomstfonds bekend gemaakt. Voor alle drie door TNO voorgestelde investeringen zijn leningen beschikbaar... Lees verder
Nieuws
Contact

Drs. Maarten Lörtzer

  • persvoorlichting
  • woordvoerder
  • media
  • voorlichter
  • pers
E-mail

Mediavragen?

Wij gebruiken anonieme cookies om het gebruik van onze site te verbeteren.