Concepten voor metrologie en apparatuur

Voor fabrikanten van apparatuur ontwikkelt TNO nieuwe machineconcepten, waaronder optische lithografie, optische metrologie en scanning probe microscopy (SPM). In dergelijke projecten combineert TNO haar kennis van de behoeftes in de halfgeleiderindustrie met haar ervaring in de systems engineering (zie ook de Space Systems Engineering-portfolio van TNO) en kennis van technologie die het resultaat is van wetenschappelijke ontwikkelingen.

Een voorbeeld is scanning probe microscopy, waar TNO sinds 2014 bij betrokken is. In slechts enkele jaren tijd ontwikkelde TNO een machineconcept dat deze techniek bijna 1000 keer sneller maakt. Dit concept wordt nu op de markt gebracht door TNO spin-off bedrijf Nearfield Instruments (met cofinanciering van Samsung en Innovation Industries). Daarnaast werkt TNO aan meer uitgebreide features om bijvoorbeeld preciezer halfgeleiderapparatuur te kunnen checken. TNO onderzoekt nearfield-optica en metamaterialen voor toekomstige optische metrologieconcepten.

Semiconductor Equipment

Volg TNO op social media

blijf op de hoogte van ons laatste nieuws, vacatures en activiteiten

Op TNO.nl maken we gebruik van cookies. De daarin opgeslagen informatie kan bij een volgend bezoek weer naar onze servers teruggestuurd  worden.