Concepten voor metrologie en apparatuur

Thema:: Concepten voor metrologie en apparatuur

Voor fabrikanten van apparatuur ontwikkelen we nieuwe machineconcepten, waaronder optische lithografie, optische metrologie en scanning probe microscopy (SPM). In deze projecten combineren we onze kennis van de behoeftes in de halfgeleiderindustrie met haar ervaring in de systems engineering (zie ook de Space Systems Engineering-portfolio van TNO) en kennis van technologie die het resultaat is van wetenschappelijke ontwikkelingen.

Scanning probe microscopy

Een voorbeeld is scanning probe microscopy, waar TNO sinds 2014 bij betrokken is. In slechts enkele jaren tijd ontwikkelde TNO een machineconcept dat deze techniek bijna 1000 keer sneller maakt. Dit concept wordt nu op de markt gebracht door TNO spin-off bedrijf Nearfield Instruments (met cofinanciering van Samsung en Innovation Industries). Daarnaast werken we aan meer uitgebreide features om bijvoorbeeld preciezer halfgeleiderapparatuur te kunnen checken. We onderzoeken nearfield-optica en metamaterialen voor toekomstige optische metrologieconcepten.