System lifetime en productiviteit (verontreinigingsbeheersing)

TNO is gespecialiseerd in verontreinigingsbeheersing voor EUV-lithografie. TNO is al 20 jaar de preferred partner van ASML en Carl Zeiss bij de ontwikkeling van modules, testapparatuur en strategieën voor de verontreinigingsbeheersing van EUV-lithografieapparatuur.

TNO breidde haar unieke infrastructuur voor R&D op het gebied van verontreinigingsbeheersing uit, inclusief oppervlakteanalyse-apparatuur en gas- en vacuüminstallaties met behulp van haar eigen (tweede) EUV-lichtbundellijn. Een unieke voorziening die operationeel werd in 2018 en ingezet wordt voor onderzoek naar materialen zoals optica, reticles en pellicles, en voor iedere partij in het EUV-lithografieveld: leveranciers van materialen, eindgebruikers (IDM's - Integrated Direct Meterings) en apparatuurontwikkelaars (OEM's- original equipment manufacturers). De flow- en thermisch-regelspecialisten van TNO hebben meer dan 10 jaar ervaring met tweefasige stroomregeling voor de meest veeleisende toepassing: immersielithografie.

Semiconductor Equipment

Volg TNO op social media

blijf op de hoogte van ons laatste nieuws, vacatures en activiteiten

Op TNO.nl maken we gebruik van cookies. De daarin opgeslagen informatie kan bij een volgend bezoek weer naar onze servers teruggestuurd  worden.