TNO is gespecialiseerd in verontreinigingsbeheersing voor EUV-lithografie. TNO is al 20 jaar de preferred partner van ASML en Carl Zeiss bij de ontwikkeling van modules, testapparatuur en strategieën voor de verontreinigingsbeheersing van EUV-lithografieapparatuur.
TNO breidde haar unieke infrastructuur voor R&D op het gebied van verontreinigingsbeheersing uit, inclusief oppervlakteanalyse-apparatuur en gas- en vacuüminstallaties met behulp van haar eigen (tweede) EUV-lichtbundellijn. Een unieke voorziening die operationeel werd in 2018 en ingezet wordt voor onderzoek naar materialen zoals optica, reticles en pellicles, en voor iedere partij in het EUV-lithografieveld: leveranciers van materialen, eindgebruikers (IDM's - Integrated Direct Meterings) en apparatuurontwikkelaars (OEM's- original equipment manufacturers). De flow- en thermisch-regelspecialisten van TNO hebben meer dan 10 jaar ervaring met tweefasige stroomregeling voor de meest veeleisende toepassing: immersielithografie.
