Ons werk

Lithografie met extreem ultraviolet licht (EUV)

Onze computers worden steeds sneller. De mogelijkheden die chips bieden, worden steeds groter. De productiemachines voor die chips moeten dus steeds geavanceerder zijn. Een lithografiemachine, een machine die te vergelijken is met een zeer nauwkeurige diaprojector, is een essentieel onderdeel van het chipproductieproces. TNO helpt ASML, wereldleider op dit gebied, bij de realisatie van prototypes voor nieuwe lithografiemachines.

De nieuwe generatie lithografiemachines maakt gebruik van extreem ultraviolet licht (EUV): licht met een zeer korte golflengte. In lucht en in de materialen waar lenzen van gemaakt worden, wordt dit licht sterk geabsorbeerd. Voor de nieuwe generatie lithografiemachines betekent dit dat de machines vergeleken met hun voorgangers in vacuüm moeten werken en spiegels in plaats van lenzen bevatten. Omdat het erg complexe apparaten zijn, is het extreem moeilijk om het vacuüm schoon genoeg te houden.

Reinheid

TNO heeft een aantal belangrijke onderdelen van de EUV-machines ontwikkeld en gebouwd. De grootste overeenkomst tussen al die onderdelen is de reinheid die gehaald moet worden. Er mogen geen vreemde deeltjes in de machine terecht komen. Die verstoren de afbeelding en leiden tot chips die niet werken. Maar ook allerlei organische materialen die bijvoorbeeld in vet en lijm zitten, kunnen niet gebruikt worden. Ze verdampen en slaan neer op de spiegels. Daar moeten dus alternatieven voor gezocht worden. Deze eisen komen naast de extreme eisen met betrekking tot nauwkeurigheid en reproduceerbaarheid die toch al aan dit soort systemen gesteld worden.

Wij gebruiken anonieme cookies om het gebruik van onze site te verbeteren.